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FEI “Q系列”掃描電子顯微鏡

產品簡介

對于失效分析、質量控制和材料表征而言、Q25是最經濟、最高效的高分辨成像和分析應用的解決方案。在設計上側重易用性、Q25可以讓用戶迅速得到他們所需的數據。 

為應對不導電樣品、Q25提供了低真空模式下的高性能、消除了對專用的樣品制備步驟或者附加的樣品鍍膜儀的需求。Q25樣品室的設計和真空系統能夠快速更換樣品、允許日常高效、快速檢測樣品。 

為滿足客戶對大樣品或塊狀樣品的要求、Q45提供了更大的真空樣品室和100mm的樣品臺行程。另外、Q45加上了環境掃描(ESEM)模式、擴展了SEM的成像和分析功能到加熱、含水或放氣的樣品。

? 簡單易用,即使是新手利用直觀的軟件可實現高效操作。 
? 利用穩定的高束流(上至2 μA)電子束可以迅速獲得精確的分析結果。 
?快速輕松表征導電和非導電樣品 
? 支持可選的分析功能。利用獨有的多級穿過透鏡的真空系統在高真空和低真空下使導電樣品和不導電樣品的精確EDS分析成為可能。 
? Q45 SEM: 采用為ESEM選配的帕爾貼冷臺可在樣品的自然含水狀態下完成樣品的動態原位分析。


分辨率 加速
電壓
探針電流 樣品臺 放大率 試件室尺寸
Q25 SEM

High vacuum 

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30 kV (BSE)*

  • 8.0 nm at 3 kV (SE)

Low vacuum

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30k V (BSE)*

  • 10 nm at 3 kV (SE)

*optional

200 V - 30 kV up to 2 μA, continuously adjusted 13 to 1000000x 284 mm size left to right
Q45 SEM

High vacuum 

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30 kV (BSE)*

  • 8.0 nm at 3 kV (SE)

High vacuum with beam deceleration option 7.0 nm at 3 kV(BD mode* + vCD*) 

Low vacuum

  • 3.0 nm at 30 kV (SE)

  • 4.0 nm at 30k V (BSE)*

  • 10 nm at 3 kV (SE)

Extended vacuum mode (ESEM)
3.0 nm at 30 kV (SE) 

*optional

200 V - 30 kV up to 2 μA, continuously adjusted 6 to 1000000x 284 mm size left to right
?
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